科技工程

芯片制造到底難在那裡?帶你了解真正的EUV光刻技術

芯片制造到底難在那裡?帶你了解真正的EUV光刻技術

談到芯片制造到底難在那裡,光刻機和光刻膠的技術,應該說是繞不開的一個話題。這期節目我們就來聊聊光刻機的光源、反射膜、光刻膠等一系列技術要點。談談中國要如何突破光刻技術,EUV的必要性和技術選擇。

Chapters章節 :
00:00 Intro簡介
01:12 EUV光刻機的歷史
04:33 EUV光刻機的難點在那裡?
07:16 EUV多層膜反射鏡技術
08:51 EUV光刻機的系統集成
10:29 EUV光刻機的缺點
11:50 光刻膠的難點在哪裡?
13:23 End總結

白呀白Talk Youtube 頻道

 

Related posts

燃油在12,500公尺的高空用光了 機長該怎麼辦

fmtv

不可思議的“大圓盤”,放在海邊就能源源不斷發電,這是什麽原理?

fmtv

晶片原來是這樣做出來的呀!一步步解析半導體製程的樣貌,讓電腦手機越快越聰明的原因就藏在台灣!

fmtv6
%d bloggers like this:
[powr-hit-counter id=e92c0df4_1545883622]